頭發(fā)曲直看DNA便知

　　通過DNA就能知道一個沒見過的人是直發(fā)還是自來卷！最近科學家的一項研究揭開了人類頭發(fā)曲直的秘密。來自中科院北京基因組研究所等單位的國內外研究人員，合作進行了一項基于近3萬人樣本的人類頭發(fā)曲直的全基因組關聯(lián)研究。相關研究論文發(fā)表在21日的《人類分子遺傳學》雜志上。

　　人類頭發(fā)形狀是一種高度遺傳的表型。在這個項目中，科學家通過問卷和專家評估結合的方式，精確量化了近3萬人的頭發(fā)曲直狀況，并分析了800多萬個遺傳位點和頭發(fā)曲直的關系。該研究發(fā)現(xiàn)8個與人類頭發(fā)曲直相關的新遺傳位點，并驗證了前人已報道的多個遺傳位點。

　　此發(fā)現(xiàn)提高了對人類頭發(fā)形狀變異的遺傳認識，有助于進一步揭開外部可見特征表達變異的分子基礎。研究論文第一作者、中科院北京基因組研究所劉凡研究員指出，“數(shù)據(jù)表明亞洲人群頭發(fā)曲直的遺傳結構不同于世界其他國家，當前發(fā)現(xiàn)的卷發(fā)相關等位基因在亞洲人群中起很小的作用甚至無作用，或者其作用完全被亞洲特異的EDAR基因變異的效應所掩蓋。”

　　劉凡介紹說，基于新發(fā)現(xiàn)位點建立的人類頭發(fā)預測模型有更高的預測準確性，在法醫(yī)學和美容領域有潛在的應用價值。分子表型刻畫是近年來法醫(yī)學的新興領域，其目的是通過對檢材DNA的深度挖掘，刻畫檢材供者的外貌特征，從而縮小犯罪嫌疑人的查找范圍，為偵查提供線索。該項研究發(fā)現(xiàn)的頭發(fā)曲直遺傳位點有助于人類外貌表型刻畫的完善，進一步推進了分子表型刻畫領域的發(fā)展。（記者陸成寬）

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